Optische Technologien ermöglichen es, immer kleinere Strukturen auf Chips zu schreiben und damit deren Speicherkapazität zu erhöhen. Forscher der Fraunhofer-Institute für Lasertechnik ILT sowie für angewandte Optik und Feinmechanik IOF wollen die Möglichkeiten ausweiten und arbeiten nun an der Fertigung von Mikrochips mit EUV-Strahlung bei 6,7 nm.
komplette Meldung auf MM MaschinenMarkt - News lesen
