Eine neue Methode zur Analyse rauer Siliziumoberflächen kombiniert Rasterkraftmikroskopie (AFM) und Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS). Fehler, die durch Oberflächenrauheit entstehen, sind so besser zu korrigieren. Besonders bei Black Silicon, einer speziellen, nanostrukturierten Siliziumobe…
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